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Zum Werk Das Patentgesetz und das Gebrauchsmustergesetz stehen im Mittelpunkt des Gewerblichen Rechtsschutzes und sind von grosser Bedeutung fuer alle Patentanwaeltinnen und Patentanwaelte, mit Patentstreitigkeiten befassten Rechtsanwaeltinnen und Rechtsanwaelte sowie Unternehmen, die ihre Erfindungen schuetzen wollen oder gegen Schutzanmassungen Dritter vorgehen muessen. Der Praxiskommentar verbindet das Patentrecht mit dem eng verwandten Gebrauchsmusterrecht. Vorrangiger Bezugspunkt der Erlaeuterungen ist die Rechtsprechung sowohl der Instanzgerichte, des BPatG und des BGH als auch der Beschwerdekammern des Deutschen Patent- und Markenamtes und des Europaeischen Patentamts. Eine Staerke des Kommentars ist, dass auch das Marken- und Geschmacksmusterrecht, das Recht des unlauteren Wettbewerbs und das Urheberrecht in die Erlaeuterungen einbezogen sind. Vorteile auf einen Blickpraegnant und praxisorientiertrechtsprechungsorientiertwichtige Nebenvorschriften im Textanhang Zur Neuauflage Die Neuauflage beruecksichtigt u.a.:das Zweite Gesetz zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts vom 10. August 2021 mit seinen zahlreichen und weitreichenden Aenderungenzahlreiche Entscheidungen des Bundesgerichtshofs, der Instanzgerichte und des Bundespatentgerichtswichtige Entscheidungen des Deutschen Patent- und Markenamts (DPMA), des Europaeischen Patentamts (EPA), des Bundesverfassungsgerichts (BVerfG), des Europaeischen Gerichtshofs (EuGH) und des Europaeischen Gerichts erster Instanz (EuG)Massgebliche Entscheidungen der Instanzgerichte, insbesondere Oberlandesgerichte Zielgruppe Fuer Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Referendarinnen und Referendare, Assessorinnen und Assessoren sowie sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behoerden.