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商品詳細
Plasma Etching: Fundamentals and Applications.
・ISBN 978-0-19-856287-0 hard GB£ 212.50
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★★★
| 著者・編者 | Sugawara, M., |
|---|---|
| シリーズ | (Series on Semiconductor Science and Technology 7) |
| 出版社 | (Oxford University Press, UK) |
| 出版年月 | 1998 |
| ページ数 | 356 pp. |
| 言語 | ENG |
| ニュース番号 | ＜A00-21584＞ |
解説
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.