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商品詳細
Patentgesetz : Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz. 12., neubearb. Aufl. G.ベンカルト著 特許法 第12版
・ISBN 978-3-406-72789-4 Ln. EUR 239.00
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★★★
| 著者・編者 | Benkard, Georg, |
|---|---|
| シリーズ | Beck'sche Kurz-Kommentare |
| 出版社 | (Beck, GW) |
| 出版年月 | 2023 |
| ページ数 | 2600 S. |
| 言語 | GER |
| ニュース番号 | <687-527> |
解説
Zum Werk Dieser Klassiker ist der fuehrende und fuer die Meinungsbildung absolut unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Naehe zur Rechtsprechung des BGH. Bezuege insbesondere zum Europaeischen Patentuebereinkommen (EPUe), zum internationalen und zum auslaendischen Recht werden, wo noetig, stets hergestellt. Vorteile auf einen BlickErlaeuterung durch erfahrene PraktikerGruendliche Darstellung nach deutschem KommentarstandardMitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes Zur Neuauflage Die Neuauflage beruecksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug hoechsten Anspruechen gerecht. Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europaeischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG). Ebenfalls enthalten sind die Aenderungen aufgrund des "Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts", wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs. Zielgruppe Fuer Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Referendarinnen und Referendare, Assessorinnen und Assessoren und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behoerden.